《美國之音》報導，荷蘭政府周三（3月8日）表示，計劃對半導體技術出口實施新的限制，以保護國家安全，加入美國遏制中國發展晶片產業的行列。
新的管制辦法在夏季之前實施
荷蘭新聞網站《NL Times》也報導，荷蘭內閣周三證實即將限制半導體生產周期當中非常具體的技術的出口，該決定直接影響荷蘭晶片設備巨頭ASML。
荷蘭貿易部長施賴內馬赫寫給國會的信函指出，新的管制辦法在夏季之前實施。
信函沒有提到荷蘭的主要貿易夥伴中國，也沒有提到歐洲最大科技公司ASML，但兩者都會受到影響。 她指定受到管制的晶片設備為DUV，這是ASML向電腦晶片製造商銷售的第二先進機台。
施賴內馬赫指出，由於荷蘭認為有必要以國家安全為由，以最快的速度對DUV技術進行監管，因此內閣將列舉一份國家管制清單。
荷蘭將列舉一份國家管制清單
艾斯摩爾（ASML）如果沒有取得特別出口許可證，就不能向中國輸出製造晶片的機台，該公司生產高度專業化和搶手的設備，用於生產電腦等裝置晶片。
有關荷蘭、美國和日本達成協議，限制向中國出口微晶片技術的消息早在今年1月份就已經洩露出去。現在，荷蘭限制銷售深紫外光曝光機（DUV，深紫外光光刻機），這類設備能夠在微晶片上刻印精細電路。
荷蘭政府多年來禁止銷售ASML的極紫外光曝光機（EUV）給中國廠商，目前，ASML是世界上唯一製造EUV的知名公司，這些機台是以深紫外光刻機的基礎所開發出來。
ASML浸潤式曝光機受到出口管制
ASML發表一份聲明表示，他們最先進的浸潤式光刻機（曝光機）受到出口管制的影響。
「隨著製造半導體技術持續進步，它對國家和國際安全的影響也不斷演進。該措施是內閣為控制半導體技術出口而制定的架構內容。」荷蘭貿易部長施賴內馬赫（Liesje Schreinemacher）致荷蘭國會下議院（Tweede Kamer）的一封信表示。
施賴內馬赫表示，目標是防止荷蘭產品最終用於不受歡迎的目標，例如軍事部署或大規模殺傷武器；防止不必要的長期戰略依賴；以及保持荷蘭的技術領先地位，出口許可證申請將根據這3項原則逐案審查。
防止荷蘭產品最終用於殺傷武器
儘管信件沒有點名ASML，但是施賴內馬赫特別強調保護深紫外光刻機（DUV）等技術的必要性，該工藝用於製造集成電路（IC）。「這些技術與其他地方製造的某些其他先進技術相結合，在先進半導體的生產中發揮著至關重要的作用。」施賴內馬赫信函寫道。
「更何況，荷蘭還與商界密切合作制定國家管制措施。對於公司而言，重要的是要準確了解自己的立場，並且有時間調整業務流程，以適應新法規。」
她的信函寫道，荷蘭政府決定盡可能採取謹慎和準確的措施，避免對價值鏈造成不必要的破壞。對於重要的公司來說，應了解他們的問題，並有時間適應新規則。日本方面最快將於本周更新晶片設備出口政策。
ASML今年對中國銷售料持平
ASML回應說，他們預計需要一些時間荷蘭才能制定相關法規施行細則。「根據今天公告、我們對荷蘭政府許可政策的預期以及當前的市場形勢，公司預計這些措施不會對我們發布的2023年財測或是長期情景產生重大影響，去年 11月公司發布今年財測。」ASML表示。
荷蘭還將向歐盟委員會和歐盟成員國通報新措施，以便他們可以採取類似的限制措施，但是，受管制的技術僅在全球少數幾個國家／地區使用。
ASML先前預計2023年對中國的銷售額將持平於23億美元左右的水平，但是該公司預計整體銷售額將增長25％．受惠於台積電、英特爾等大客戶均在擴廠。
