美國總統川普4月12日警告北京，若中國軍援伊朗，將被加徵50%關稅，在此之前有媒體報導美國國會計畫禁止向中國出口深紫外光（DUV）設備的消息，封殺中國晶片命脈。
《亞洲時報》報導，美國國會議員尋求阻止中國取得深紫外光刻（DUV）設備技術，專家預期，中國半導體產業或將遭受重創，如果中國國內AI晶片生產受到干擾，中國企業可能會轉向，爭相採購輝達（Nvidia ）的人工智慧（AI）高階晶片。
中國晶片產業依賴ASML的關鍵設備，但美國兩黨議員正準備聯手通過《MATCH法案》法案，擬禁荷蘭半導體設備大廠ASML的DUV技術出口中國，主要是為了收緊對先進半導體設備的限制，阻止中國晶片製造商取得深紫外線（DUV）設備、相關零件和維護服務，華為、中芯國際等公司將受到打擊。
長期以來，中國晶片業長期與美國的出口管制鬥爭，尤其是在半導體產業。此前，美國政府透過荷蘭ASML，間接禁止EUV設備出口中國，導致中國半導體產業遭受重創。
新法案將禁止DUV設備外銷到中國
雖然這促使北京加強建中國國內晶片供應鏈的努力，但也限制中國在製程製程的提升，這也是為什麼中國晶片商目前仍受限於5奈米製程的原因。
然而，根據美國國會外交關係委員會發布的新聞稿，議員們正準備通過《MATCH法案》，該法案將禁止DUV設備外銷到中國。
《硬體技術管制多邊協調法案》（MATCH 法案）主要是為了與美國盟友和夥伴協調出口管制，目標是部分中國半導體公司，並試圖阻止關鍵晶片製造工具的轉移，這些工具由荷蘭ASML等外國公司提供。
《MATCH法案》的關鍵條款包括全面禁止向相關國家銷售和維修關鍵晶片製造工具，除非這些設備由美國或其盟國的公司管控。
該法案對中國主要晶片製造商實施更嚴格的限制，包括長信儲存技術有限公司、華虹半導體、華為、中芯國際和長江存儲。這些規定將限制美國與盟設備國廠商向這些中國公司及其關聯公司出口、維修和技術支援。
美國制裁力度將明顯升級
另一個重要條款是建立外交途徑，使美國出口管制與盟國保持一致，並設定150天的期限達成協議。如果需要更多時間，《美國行政命令》也允許以國家安全為由豁免。
《MATCH法案》採取措施確保公平競爭環境，如果盟國在規定期限內未能遵守美國的管制規定，則將管制範圍擴大到使用美國技術的外國製造設備。
美國國會將通過的法案象徵制裁力度顯著升級，明確針對「所有深紫外線浸沒式微影系統、矽通孔（TSV）沉積和蝕刻設備、低溫蝕刻設備以及鈷沉積設備」。
利用TSV和低溫蝕刻技術，工程師能夠在矽晶圓上鑽出深的垂直通道以堆疊各層，至於鈷沉積技術，提供將這些層連接成單個強大處理器的高性能金屬佈線。
該法案還將阻止主要位於荷蘭和日本的盟國公司向中國提供工程服務，以維護或升級已在中國晶圓廠運作的現有晶片設備。
中芯跟華為利用DUV設備生產7奈米晶片
這一點至關重要，因為中國晶片製造商仍然依賴ASML NXT:1980i 等可以運輸和維修的舊式設備。儘管受到美國制裁，中芯國際仍利用這類老舊設備以及多重曝光技術，為華為生產7奈米晶片。
ASML TWINSCAN NXT:1980Fi是一套用於生產7-16奈米晶片的深紫外線浸沒式微影（DUV）系統。
一些觀察家認為，法案的影響不僅限於技術領域，也波及商業和地緣政治領域。
如果中芯國際的7奈米製程產能受到限制，華為供應國產AI晶片的能力也會減弱，因為北京方面正敦促企業優先採購華為AI晶片產品，而非輝達H200等美國替代品。這些措施也為美國總統川普和中國國家主席習近平計畫於5月14日至15日舉行的會晤增添不確定性，並可能使更廣泛的貿易和戰略談判複雜化。
